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利好消息频传:中科院入局 5台设备交付 我国将成光刻机“新玩家”-云顶国际yd888

        据悉,在华为芯片被断供后,中国国产芯片的弊端暴露无遗,为实现国产芯片自主化,尽快摆脱芯片制造产业上的短板,9月16日,中科院白院长在“率先行动”进展通报会上正式宣布,将会入局光刻机产业,未来将集中全院的力量来攻克光刻机、关键原材料等被西方卡脖子的问题,同时将起到带头模范作用,带动相关企业共同进步。

        近日,中国企业利好消息也是频频传来:先是有晶瑞股份宣布已从sk海力士购买到一台asml光刻机,用于本公司光刻机产品的研发;后有英唐智控以100%收购股权的方式完成对日本先锋微技术公司的控股,将5台光刻机正式纳入囊中。在此态势下,全球光刻机市场垄断局面将被打破,我国在国际市场上将占据一席之地。

        光刻机,又称掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,是制造芯片与半导体的核心装备,其工艺水平决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。

光刻机产品分类(按有无掩模分类)
 
资料来源:公开资料整理

        据悉,目前我国已成为芯片消费大国,而芯片制造所需的关键设备—光刻机,我国却一时难以突破,还是只得依靠进口。从销售额来看,数据显示,目前全球光刻机市场主要由荷兰的asml、日本的尼康和佳能占据主动权,呈三足鼎立局面。其中,在2019年全球光刻机市场竞争格局中,荷兰asml公司市场份额占比最大。

2019年全球光刻机市场竞争格局

数据来源:公开资料整理

        从销售量来看,2014-2018年,全球光刻机top3企业销售量呈现波动增长的态势,2019年有所下滑,销售量为354台,同比下降3.8%。截止到2020年q1,全球top3企业销售量实现85台。

2014-2020年q1光刻机top3企业销售量(单位:台)
 
数据来源:企业公报

        目前,市场上销售的光刻机主要产品分为五大类:euv光刻机、arf lm光刻机、arf dry光刻机、krf光刻机和i-line光刻机。其中,i-line光刻机出货最多。数据显示,2019年在上述五类光刻机产品销售量情况中,i-line光刻机出货量为116台,在这116台中,canon公司贡献了一半以上。

2019年光刻机top3企业各类产品销售量
 
数据来源:企业公报

        长期以来,我国的光刻技术落后于先进国家,但在政策驱动下,行业相关企业正在加快研发进度。目前,在我国光刻机市场中,上海微电子(smee)一枝独秀,成为最有竞争优势的企业。

我国光刻机相关领先企业技术进展情况

公司名称

量产精度

上海微电子装备有限公司

90纳米

中子科技集团公司第四十五研究所国电

1500纳米

合肥芯硕半导体有限公司

200纳米

先腾光电科技有限公司

800纳米

无锡影速半导体科技有限公司

200纳米

资料来源:公开资料整理

        2020年6月初,上海微电子宣布将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产浸入式光刻机,预示着国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。随着技术水平的不断提高,我国光刻机市场竞争力也将得到增强。

        而随着中科院的入局以及国内企业利好消息频传,甚至日媒方面也传来消息,我国有计划与尼康合作开发光刻机技术,未来我国或许将会成为第三个能制造主流光刻机的玩家。(shz)

        相关行业分析报告参考《》。

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